振動式超低溫超微粉碎機ZCW-6B（超低溫型）

設(shè)備參數(shù)

設(shè)備型號：ZCW-6B(超低溫型）

主電機功率：1.1KW

主機電壓：380V（可定制220V)

降溫方式：3P低溫冷水機

低溫制冷溫度：-35度

粉碎倉水冷套：外置帶保溫層

粉碎倉翻轉(zhuǎn)方式：氣動自動翻轉(zhuǎn)

氣動配置：單缸無油靜音空壓機

主機軸承：日本NACHI

制冷介質(zhì)：低溫冷卻液

冷水機功率：3P/220V

冷卻液連接：橡膠軟管連接

主機控制器：文本顯示

冷水機溫控器：數(shù)字顯示

磨倉總?cè)莘e：6L

單次裝量：1.2L

細度：200-10000目（注：細度與原料性質(zhì)和粉碎時間有關(guān)）

產(chǎn)量：0.5-4.0kg/h

粉碎倉壁厚：14mm

磨棒材質(zhì)：304不銹鋼

磨棒尺寸：Φ20X175mm

降噪處理：雙層不銹鋼隔音罩

外型尺寸(mm)：主機: L1100×W750×H1600

重量(KG)：主機:500KG   冷水機:215KG

產(chǎn)品簡介：

振動式超低溫超微粉碎機ZCW-6B采用高頻振動加密閉研磨技術(shù)，配合粉碎倉全水套+冷水機降溫的方式，該機不僅能實現(xiàn)高細度的超微破壁粉碎，而且能夠?qū)崿F(xiàn)整個粉碎過程在低溫環(huán)境下，保持原料性質(zhì)不變的情況下細度也達到較高程度，該機能實現(xiàn)干法粉碎也可應用于濕法粉碎。該型設(shè)備具有以下技術(shù)和特點。

1、全密閉粉碎：干濕粉碎一機搞定，為保存藥效成份而采用的全密閉多磨不篩技術(shù)，有效避免產(chǎn)生藥效成份偏析和損失、因粉塵溢出而污染環(huán)境等現(xiàn)象。

2、研磨球磨粉碎技術(shù)：為提高粉碎效率和效果，運用高速撞擊力和剪切力，使物料在磨筒內(nèi)受到介質(zhì)的擠壓、揉捏和撕裂作用，縮短粉碎時間，提高了粉碎效率；同時因物料呈流態(tài)化且每一顆粒具有相同的受力狀態(tài)，其自有粘性作用可使成品形成分散均勻和精密復合化的微粒子團，增加密實度和提高生物利用度，提高微粉碎效果和技術(shù)。

3、動態(tài)優(yōu)化技術(shù)：按物料的不同特性，在保證提高微粉碎效率和效果的同時，進行優(yōu)化適配的技術(shù)。

4、機電一體化技術(shù)：實現(xiàn)設(shè)備的高性能和高水平，減少人工用量，確保成品質(zhì)量穩(wěn)定可控的技術(shù)，避免因人工介入過多而產(chǎn)生品質(zhì)不穩(wěn)定、受污染等現(xiàn)象。

5、全面自動化技術(shù)：具備單機多功能自動化（FMC柔性化），使小批量藥物生產(chǎn)象大批量流水線生產(chǎn)一樣簡便的技術(shù)。

6、潔凈安全化技術(shù)：本辰超微粉碎機系列嚴格按GMP標準設(shè)計制造，能夠滿足制藥粉體裝備的特殊要求。

設(shè)備特點

1、安全性強：與物料接觸的部位均為拋光不銹鋼，其材質(zhì)為國際醫(yī)藥食品機械通用材質(zhì)(也可根據(jù)用戶要求改為其它金屬材質(zhì))，避免砷、鎘、汞、鉛、銅等重金屬混入。

2、潔凈衛(wèi)生：內(nèi)外面平滑、一機多用、減少污染、減輕洗凈作業(yè)負擔；粉碎過程全密閉無粉塵溢出，充分改善作業(yè)環(huán)境，有效成份不損失。

3、降噪處理：采用復合（透明）雙層不銹鋼隔聲罩，噪音大大降低。

4、清潔消毒：易拆卸(組裝）、易清洗換料?？捎盟嚎s空氣、酒精、蒸汽等清洗消毒。

5、操作方式：容量適配、確保物料排出干凈，操作和換料簡便。

6、維護維修：結(jié)構(gòu)緊湊、占地面積小，維修養(yǎng)護方便。

7、使用環(huán)境：全密閉作業(yè)*粉塵溢出、有效成份不損失、無藥渣產(chǎn)生，可改善工作環(huán)境。

8、粉碎效率：100%粉碎，無藥渣剩余。高速撞擊力和剪切力的雙向作用，縮短了粉碎時間，提高粉碎效率。

9、廣泛的適應性：對于任何纖維狀、高韌性、高硬度或有一定含水率的物料均可適應。對花粉及其它孢子植物等要求打破細胞壁的物料，其破壁率高于98%。同時適應干式和濕式粉碎。濕式粉碎時可加入水、酒精或其它液體。

10、溫度可控低溫可實現(xiàn)：通過配置可進行高溫、常溫、低溫或超低溫的微粉碎，可以保持物料的原有理化性質(zhì)和活性成份。給磨筒外壁的夾套通入冷水。通過調(diào)節(jié)冷卻水的溫度和流量可控制粉碎溫度。低溫粉碎，冷凍系統(tǒng)zui低溫度可達零下35℃(高檔超低溫配置)。

11、不銹鋼全封閉機體結(jié)構(gòu)，可放于GLP實驗室或10萬級GMP車間